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2022-03-09 10:27:58
这2年,台积电、三星在优秀工艺上奋勇争先,下一步大比拼的便是3nm、2nm。
三星先前早已公布,3nm3GAE低功耗版2022年初量产,3nm3GAP高性能版2023年初量产,2nm2GAP2025年量产。
台积电CEO魏哲家全新公布表明,台积电3nmN3将在2021年内风险试生产,2022年后半年规模性量产,2023年第一季度得到 实际工资。
台积电N33nm工艺将是N55nm以后的全新升级连接点,称为通过相对密度可提升70%,同样功耗下性能可提高10-15%,同样性能下功耗可减少25-30%,而且应用更几层的EUV光刻技术(不少于N514层),因而更为复杂,全部工艺步骤的工艺流程超出1000道。
N3还会继续发展出一个N3E版本号,能够视作增强版,有更强的性能、功耗、产品合格率,与此同时制定和IP上彻底兼容N3,2024年量产。
台积电的N22nm工艺一直较为神密,官方网先前仅仅确定会考虑到应用GAAFET(围绕栅压场效晶体三极管),但从没确立是不是确实越马。
依照魏哲家的全新观点,N2工艺将在2025年量产,并注重不管集成化相对密度或是性能全是业界较好的,但未得出实际指标值。
以前预估台积电2nm2024年就能量产,結果如今节奏感也变缓了,和三星基本上同歩,就看谁的呈现更强了,自然也有昂贵的费用难题。